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GT-1800直接光控光學真空鍍膜機
瀏覽器自帶分享功能也很好用哦~GT系列高端光學真空鍍膜設備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。
產(chǎn)品詳情
GT系列高端光學真空鍍膜設備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。
設備特點：
· 腔體尺寸φ1150-φ1800mm
· 高精度直接/間接光學膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
· 高離子流密度射頻離子源
· 雙電子槍，多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上
· ACS全自動鍍膜控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動鍍膜過程
· 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉式
· 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷
GT-1600主要規(guī)格參數(shù)：
| 真空腔室尺寸 | SUS304 φ1800mmx1900mm（H） |
| 工件盤有效鍍膜尺寸 | φ1680mm |
| 基板回轉速度 | 3r/min-30r/min(可變) |
| 光學膜厚監(jiān)控 | 直接監(jiān)控 波長范圍：360nm-2400nm 波長精度：＜±1nm 監(jiān)控器類型：透射 |
| 晶振膜厚儀 | XTC-3+6點晶控 |
| 蒸發(fā)源 | E型電子槍2套 |
| 離子源 | GTRF23 |
| 真空排氣 | 機械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵 |
基本性能：
| 極限真空 | 8.0x10-5Pa |
| 排氣時間 | 大氣-3.0x10-3Pa/12min/常溫空載 |
| 基板溫度 | 最高350℃ |
工作條件：
| 空間要求 | 約2.7m（寬）x4.6m（深）x2.7m（高） |
| 電源要求 | 3相4線380v50Hz、約80kw |
| 冷卻水要求 | 160L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃ |
| 壓縮空氣 | 0.6MPa |
| 設備重量 | 約12000kg |
GT-1800直接光控光學真空鍍膜機
GT系列高端光學真空鍍膜設備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。
400-6667-357
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GT系列高端光學真空鍍膜設備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。
設備特點：
· 腔體尺寸φ1150-φ1800mm
· 高精度直接/間接光學膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
· 高離子流密度射頻離子源
· 雙電子槍，多點和環(huán)型坩堝可鍍100層以上
· ACS全自動鍍膜控制系統(tǒng)實現(xiàn)全自動鍍膜過程
· 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉式
· 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷
GT-1600主要規(guī)格參數(shù)：
| 真空腔室尺寸 | SUS304 φ1800mmx1900mm（H） |
| 工件盤有效鍍膜尺寸 | φ1680mm |
| 基板回轉速度 | 3r/min-30r/min(可變) |
| 光學膜厚監(jiān)控 | 直接監(jiān)控 波長范圍：360nm-2400nm 波長精度：＜±1nm 監(jiān)控器類型：透射 |
| 晶振膜厚儀 | XTC-3+6點晶控 |
| 蒸發(fā)源 | E型電子槍2套 |
| 離子源 | GTRF23 |
| 真空排氣 | 機械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵 |
基本性能：
| 極限真空 | 8.0x10-5Pa |
| 排氣時間 | 大氣-3.0x10-3Pa/12min/常溫空載 |
| 基板溫度 | 最高350℃ |
工作條件：
| 空間要求 | 約2.7m（寬）x4.6m（深）x2.7m（高） |
| 電源要求 | 3相4線380v50Hz、約80kw |
| 冷卻水要求 | 160L/min、0.2-0.4MPa、18-25℃ |
| 壓縮空氣 | 0.6MPa |
| 設備重量 | 約12000kg |
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