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                成都國泰真空設(shè)備有限公司
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                GTV-2700光學(xué)真空鍍膜機(jī)
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                GTV-2700光學(xué)真空鍍膜機(jī)可用于濾光片、常規(guī)AR-玻璃、常規(guī)AR-樹脂類等膜產(chǎn)品的量產(chǎn)。
                產(chǎn)品詳情

                  GTV系列光學(xué)真空鍍膜設(shè)備可用于濾光片、常規(guī)AR-玻璃、常規(guī)AR-樹脂類等膜產(chǎn)品的量產(chǎn)。

                  設(shè)備特點(diǎn):

                  · 腔體尺寸φ600-φ2700mm

                  · 高離子流密度射頻離子源

                  · 雙電子槍,多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

                  · ACS全自動(dòng)鍍膜控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜過程

                  · 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉(zhuǎn)式

                  · 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷

                  GTV-2700主要規(guī)格參數(shù):

                真空腔室尺寸

                SUS304 φ2700mmx1600mm(H)

                工件盤有效鍍膜尺寸

                φ2610mm

                基板回轉(zhuǎn)速度

                3r/min-30r/min(可變)

                晶振膜厚儀

                MXC-3B+6點(diǎn)晶控

                蒸發(fā)源

                傳統(tǒng)阻蒸1套或多套、E型電子槍2套

                離子源

                GTHC-8x2/GTHA-8x2

                真空排氣

                機(jī)械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵

                  基本性能:

                極限真空

                1.0x10-4Pa

                排氣時(shí)間

                大氣-3.0x10-3Pa/12min/常溫空載

                基板溫度

                最高300℃

                  工作條件:

                空間要求

                約4.4m(寬)x6m(深)x2.8m(高)

                電源要求

                3相4線380v50Hz、約100kw

                冷卻水要求

                160L/min、0.3-0.5MPa、18-25℃

                壓縮空氣

                0.6MPa

                設(shè)備重量

                約15000kg


                GTV-2700光學(xué)真空鍍膜機(jī)

                GTV-2700光學(xué)真空鍍膜機(jī)

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                GTV-2700光學(xué)真空鍍膜機(jī)可用于濾光片、常規(guī)AR-玻璃、常規(guī)AR-樹脂類等膜產(chǎn)品的量產(chǎn)。
                400-6667-357
                產(chǎn)品詳情

                  GTV系列光學(xué)真空鍍膜設(shè)備可用于濾光片、常規(guī)AR-玻璃、常規(guī)AR-樹脂類等膜產(chǎn)品的量產(chǎn)。

                  設(shè)備特點(diǎn):

                  · 腔體尺寸φ600-φ2700mm

                  · 高離子流密度射頻離子源

                  · 雙電子槍,多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

                  · ACS全自動(dòng)鍍膜控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜過程

                  · 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉(zhuǎn)式

                  · 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷

                  GTV-2700主要規(guī)格參數(shù):

                真空腔室尺寸

                SUS304 φ2700mmx1600mm(H)

                工件盤有效鍍膜尺寸

                φ2610mm

                基板回轉(zhuǎn)速度

                3r/min-30r/min(可變)

                晶振膜厚儀

                MXC-3B+6點(diǎn)晶控

                蒸發(fā)源

                傳統(tǒng)阻蒸1套或多套、E型電子槍2套

                離子源

                GTHC-8x2/GTHA-8x2

                真空排氣

                機(jī)械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵

                  基本性能:

                極限真空

                1.0x10-4Pa

                排氣時(shí)間

                大氣-3.0x10-3Pa/12min/常溫空載

                基板溫度

                最高300℃

                  工作條件:

                空間要求

                約4.4m(寬)x6m(深)x2.8m(高)

                電源要求

                3相4線380v50Hz、約100kw

                冷卻水要求

                160L/min、0.3-0.5MPa、18-25℃

                壓縮空氣

                0.6MPa

                設(shè)備重量

                約15000kg


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