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GT-1800直接光控光學(xué)真空鍍膜機(jī)

GT系列高端光學(xué)真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。

產(chǎn)品詳情

　　GT系列高端光學(xué)真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。

　　設(shè)備特點(diǎn)：

　　· 腔體尺寸φ1150-φ1800mm

　　· 高精度直接/間接光學(xué)膜厚監(jiān)控系統(tǒng)

　　· 高離子流密度射頻離子源

　　· 雙電子槍，多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

　　· ACS全自動(dòng)鍍膜控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜過程

　　· 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉(zhuǎn)式

　　· 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷

　　GT-1600主要規(guī)格參數(shù)：

真空腔室尺寸	SUS304 φ1800mmx1900mm（H）
工件盤有效鍍膜尺寸	φ1680mm
基板回轉(zhuǎn)速度	3r/min-30r/min(可變)
光學(xué)膜厚監(jiān)控	直接監(jiān)控波長(zhǎng)范圍：360nm-2400nm 波長(zhǎng)精度：＜±1nm 監(jiān)控器類型：透射
晶振膜厚儀	XTC-3+6點(diǎn)晶控
蒸發(fā)源	E型電子槍2套
離子源	GTRF23
真空排氣	機(jī)械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵

　　基本性能：

　　工作條件：

GT-1800直接光控光學(xué)真空鍍膜機(jī)

GT系列高端光學(xué)真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。

400-6667-357

產(chǎn)品詳情

　　GT系列高端光學(xué)真空鍍膜設(shè)備用于制備近紫外波段至近紅外波段的窄帶濾光膜以及IR-CUT等規(guī)整及非規(guī)整膜系。

　　設(shè)備特點(diǎn)：

　　· 腔體尺寸φ1150-φ1800mm

　　· 高精度直接/間接光學(xué)膜厚監(jiān)控系統(tǒng)

　　· 高離子流密度射頻離子源

　　· 雙電子槍，多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上

　　· ACS全自動(dòng)鍍膜控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)鍍膜過程

　　· 工件架可選擇球傘式、行星式或翻轉(zhuǎn)式

　　· 排氣系統(tǒng)低真空泵組+高真空泵組+深冷

　　GT-1600主要規(guī)格參數(shù)：

真空腔室尺寸	SUS304 φ1800mmx1900mm（H）
工件盤有效鍍膜尺寸	φ1680mm
基板回轉(zhuǎn)速度	3r/min-30r/min(可變)
光學(xué)膜厚監(jiān)控	直接監(jiān)控波長(zhǎng)范圍：360nm-2400nm 波長(zhǎng)精度：＜±1nm 監(jiān)控器類型：透射
晶振膜厚儀	XTC-3+6點(diǎn)晶控
蒸發(fā)源	E型電子槍2套
離子源	GTRF23
真空排氣	機(jī)械泵+分子泵/低溫泵/+深冷捕集泵

　　基本性能：

　　工作條件：